理化性质? Р按照其来源? ?按照其毒性Р按化学结构Р有机杂质、无机杂质、残留溶剂Р工艺杂质(包括合成中未反应完全的反应物、? 试剂、中间体、副产物等)? 降解产物? 从反应物及试剂中混入的杂质等。Р毒性杂质、普通杂质Р如甾体、生物碱、几何异构体、光学异构体? 聚合物等。Р有机杂质:?包括工艺中引入的杂质和降解产物等,由于这类杂质的化学结构一般与活性成分类似或具渊源关系,故通常又可称之为有关物质。?无机杂质:?是指在原料药及制剂生产或传递过程中产生的杂质,这些杂质通常是已知的,主要包括:反应试剂、配位体、催化剂、重金属、其它残留的金属、无机盐、助滤剂、活性炭等。?残留溶剂:?在合成、纯化、制剂过程中残留所使用的溶剂,这些溶剂通常是已知的。Р二、国内外对药物杂质研究的?相关技术要求Р最大日剂量Р报告限度Р鉴定限度Р质控限度Р≤2gР0.05%Р0.10%或1.0mg ?(取最小值)Р0.15%或1.0mg ?(取最小值)Р>2gР0.03%Р0.05%Р0.05%Р附件1:原料药的杂质限度Р(一)杂质限度要求Р报告限度(Reporting Threshold):? 超出此限度的杂质均应在检测报告中报告,并应报告具体的检测数据。?鉴定限度(Identification Threshold):? 超出此限度的杂质均应进行定性分析,确定其化学结构。?质控限度(Qualification Threshold):? 质量标准中一般允许的杂质限度,如制订的限度高于此限度,则应有充分的依据。Р1、有机杂质的限度确定Р质量标准中对有机杂质的限度规定应包括:?每一个已知杂质、未知杂质及总杂质。?共存的异构体和抗生素的多组分一般不作为杂质进行控制,必要时作为共存物质在质量标准中规定其比例。?单一的对映体药物,其对映异构体应作为杂质控制.由于创新药物与仿制药情况不同,在确定杂质限度时,可有所区别。
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