反射率不会很高, 且损伤阈值偏低, 一定程度上限制了金属膜的应用范围。 介质薄膜中氧化物薄膜因机械应力小, 环境稳定性比氟化物薄膜好, 而在193nm 得到广泛应用。在真空紫外波段, 所用的氧化物材料主要是Al2O3和SiO2。氟化物材料带宽大、吸收系数小, 是真空紫外波段中190nm 以下波段的首选介质材料, 但氟化物材料对同步辐射和CH 污染都比较敏感, 为此需要外镀保护层。研究表明,SiO2能起到最好的保护效果。沉积了致密SiO2保护层的氟化物高反膜, 在中心波长180nm处可得到接近99%的反射率。氟化物减反膜在157 nm处可得到0.1%以下的反射率; 到目前为止, 氟化物薄膜最好的沉积工艺是热舟蒸发。等等。然而光学薄膜的透过率、反射率和带宽等性能与材料的性能特别是折射率密切相关,在优化光学薄膜设计时,为了达到最佳性能,往往需要特定折射率材料。但自然界中可直接利用的材料是有限的,往往找不到优化设计所需的最佳的特定折射率材料。即使找到折射率接近的某种材料,也有可能因为该材料的其它性能(如消光系数、透明区等)不好而无法使用。应用等效折射率的方法,可以实现对某种特定折射率材料的等效替换,但这种方法会大大增加薄膜的层数,尤其是对于膜层较多的设计方案来说,会使膜系设计和优化更加复杂,而且可能会增加制备工艺的难度[1-2]。因此,如何通过简单可靠的手段得到想要的特定折射率材料是光学薄膜研究的热点之一。在实际应用中,为了获得现实不存在的某种特殊功能的材料,人们往往会想到用两种或多种材料掺杂的方法来实现。制备掺杂材料的方法也不尽相同,最早期的是把两种材料粉末进行简单的物理混合,这种方法虽然简单,但制备出的掺杂材料的性能往往不佳。以后,人们不断尝试用其它物理方法(如混合蒸镀法、反应沉积法等)进行掺杂材料的制备,混合蒸镀法就是其中一种相对比较成熟的方法,包括材料混合蒸镀,分层蒸镀和
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