到一定值时,非离子表面活性剂从水溶液中析出变混浊,此温度即为浊点。因此温度升高时非离子表面活性剂逃离水的趋势增强,吸附量增大。温度对非离子表面活性剂的去污能力的影响是明显的,当温度接近于浊点时,洗涤效果最好,如图尽:,三、实验结论⒕钚约两莺蟮钠忧逑葱Ч:糜诓痪莸钠樱诮菔被岱⑾只钚约帘浜冢苯哟蹈后与只用水冲洗的片子比较,发现浸泡后的片子要干净。这是由于活性剂能将硅片表面的颗粒和污图某奔涠郧逑葱Ч挠跋图逑匆旱那逑词奔涠郧逑葱Ч挠跋图露榷郧逑葱Ч跋摄氏度一冀『郎云㏒群螺遶斟篮书又摺瓣篮玳啦∞驰“鸵惦帕两向帖碍阳棚.,—痕迹,这在生产中是普遍存在的问题。结束语参考文献染物包起来,然后使他们从硅片表面脱离。⑵匠Ч飨杂庞诹⒊诔勰谟闷匠逑词保晒鄄斓胶谏廴疚锎幽テ砻娉鱿郑俣群快,双面清洗可将两面的污物清除,最后清洗完毕后,磨片表面洁净不发黑,而用竖超时,则没有明显的污染物自水面溢出的现象。而且用竖超时间达到一定,由于超声本身的缘故磨片表面会出现同心圆⑶逑创问郧逑葱Ч灿泻艽笥跋欤逑戳酱蚊飨杂庞谇逑匆淮危逑匆淮蔚哪テ砻娣⑽郏蝗缜洗两次的片子表面光洁。⒓尤胗谢睿眉畹母葱校梢约涌烨逑吹乃俣龋岣咔逑吹男Ч磨片的清洗在半导体制程中十分重要,而且磨片的清洗是所有清洗工序中最困难的,以前所用的超声清洗由于种种原因,总是存在这样或那样的问题,清洗的效果也不尽人意,所以解决磨片清洗的问题对半导体行业是很有意义的。经过大量的实验,我们找到了一种比较理想的磨片清洗方法,同时对清洗液作了深入的研究,形成了一套成熟的清洗方法。这种方法,缩短了清洗时间,降低了清洗液的浓度,所以它是磨片清洗工艺一个好的开端。【亢ò浔啵氲继骞ひ栈В暇憾洗笱С霭娑牛【認铃木,道夫·佐藤等.大规模集成电路工厂洁净技术.北京:电子工业出版社,.,【坷钅似剑⒌缱悠骷ひ眨V欣砉ご笱С霭嫔纾瓸疢.【縂【緼【緼:~兀,【縇..【】衠:【:.,瓾甂.瓾琋
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