有一定的差距,但差距正在逐步缩小。通过有关科研人员的努力,我国于1993年成功研制出天线耦合石英钟罩式800KW的MPCVD装置;于1997年研制出5KW不锈钢腔体天线耦合式MPCVD装置。,目前8KW和10KW功率、2.45GHz频率的MPCVD装置正在研制和试验当中。当前美国和欧洲主要生产金刚石膜的公司(如Norton公司、Crystallume公司、LambdaTechnologies公司、ASTeX公司、Westinghouse电气公司、IBM公司、ApolloDiamond公司、DeBeer钻石公司等等)都是用微波等离子体CVD方法来制备金刚石薄膜产品的。微波等离子体CVD法可以制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量金刚石薄膜,特别适合在各种曲面(异形表面)上涂复金刚石薄膜,能制备各种不同需要的金刚石薄膜制品。并且可以原位实施基体与金刚石薄膜之间的中间层的多种不同处理工艺,适用性强。设备的使用操作简便,设备本身没有易损易耗件,能长期稳定运行,生产的重复性好。设备的能耗低,运行成本也低。因此微波等离子体CVD法是当前世界上研究和制备金刚石薄膜的主流方法。特别是对正在研究开发电子器件级高纯和可控制掺杂的异质外延金刚石薄膜,微波等离子体CVD技术是唯一能达到相应严格工艺要求的制备方法。所以国际学术界公认“微波等离子体CVD法是稳定生长纯的均匀的高质量金刚石膜的最有前途的技术”。金刚石膜必将在今后的发展中发挥越来越重要的作用,同时微波等离子体CVD法制备金刚石膜的工艺也会日趋成熟。参考文献麻蒔立男《薄膜制备技术基础》原著第四版《表面技术》2007年03期胡海天,邬钦崇,微波等离子体化学气相沉积金刚石膜,物理曲敬信表面工程手册化学工业出版社微电子专业英语期末大作业题目:微电子专业英语物联网工程学院微电子专业学号:0301080121学生姓名:汪伟江2012年12月
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