UV照射:分解、去除投入的ITO镀膜后良品基板表面的有机物。纯水刷洗:用纯水无接触的刷洗ITO表面,清除难以清洗的残留粒子,刷子离开ITO膜表面的距离为700±200μm,纯水压力为0.2MPa,主要靠纯水水流清洗。纯水清洗:雾状喷头由上向下喷射0.2MPa压力的常温纯水,清除掉刷洗所刷掉的异物和粒子。二流清洗:用压力为0.4MPa的空气与压力为0.3MPa的23℃纯水,喷淋清洗ITO后基板表面上的粒子。风刀干燥:风刀与传送带成45°夹角,净化空气压力为0.5MPa,去除水分。吹离子风:消除静电。前烘:先用在120℃的环境中,烘烤ITO镀膜后的基板50s,然后用20s的时间将其冷却到23℃,目的是烘干水分。 MVA光阻涂敷:用Slit方法涂敷MVA光阻,Slit速度为130mm/s,涂敷的膜厚为20μm,涂敷喷嘴到基板ITO膜表面的距离为130μm左右。减压干燥:在压力为20pa的环境中,将涂敷过的基板保持76s,然后充氮气,可以防止膜质起泡,使膜质干燥均匀。后烘:在90℃的环境中,将基板保持100s,然后在23℃的环境中将基板保持20s,可将光阻膜质上的水分充分烘干。曝光:曝光功率为13.3kW、照度为33.3mW/cm2、曝光量为84.8mJ、照射光阻时间3s。Mask为石英玻璃材质,厚度为10mm。显影:用前后摇动、喷射角度为75°的喷嘴喷射浓度为2%左右的KOH显影液,基板倾斜5°,基板移动速度为2,276mm/min。显影液温度为25℃,压力为0.4MPa,流量为450Nl/min,显影时间为60s。显影后将未曝光的胶体洗掉,留下曝光部分的图形。纯水清洗:雾状喷头喷射0.1MPa压力的25℃纯水,清除残留的显影液。风刀干燥:风刀与传送带成45°夹角,净化空气压力为0.5MPa,去除水分。光学检查:用AOI在线光学检测、记录基板信息,按规格对工艺缺陷进行判定和分类。
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