ArF准分子激光合成石英玻璃基板的研究及制作方法

、薄膜材料研究,使之具有相应波段的低吸收;Р2、高精度基片的加工工艺研究,以减少相应波段的散射损耗;Р3、优化镀膜方法及沉积工艺,使材料与基片的性能得到充分发挥;Р4、镀膜后处理技术研究,减少薄膜内部的吸收;Р5、采用计算机模拟设计膜系,实现低损耗薄膜膜系;Р6、高精度控制技术研究,保证准确的薄膜厚度匹配;Р7、相应波段的薄膜性能测量装置研究,以准确了解薄膜性能。Р Р参考文献Р[1] 黄香平,崔连武,肖金泉等. ArF准分子激光晶化非晶硅薄膜微结构研究[J].世界科技研究与发展,2010,32(4),页码:417-419.Р[2] 尚淑珍,易葵,邵建达等. 光刻机系统中193nm薄膜的研究进展[J].激光与光电子学进展,2006,43(1), 页码:233-239.Р[3] 游利兵,周翊,梁勖等.近期光刻用ArF准分子激光技术发展[J].量子电子学报,2010,27(5), 页码:142-146.Р[4] 陈进,王杰,王鹏等.光栅掠入射腔对ArF激光线宽的压缩和调谐[J].光电子·激光,2001,12(5), 页码:214-218.Р[5] 宋登元. ArF准分子激光光刻的研究现状[J].激光技术,1999,23(5),页码:132-136.Р[6] 冯伯儒,张锦,宗德蓉等.用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术[J].光电工程,2004,31(1),页码:632-638.Р[7] Hisatoshi Otsuka,Joetsu(JP);Kazuo Shirota,Joetsu(JP);Osamu Sekizawa, Joetsu(JP).Synthetic Quartz Glass Substrate for Eexcimer Lasers and Making Method, United States Patent,US7827824B2,2010.考