先观察到有机金属化合物的激光离解,并用来制备金属团簇和超细陶瓷及其他种类的纳米粒子。一、背景介绍目前,LICVD法已制备出多种单质、无机化合物和复合材料超细微粉末.LICVD法制备超细微粉已进入规模生产阶段,美国的MIT(麻省理工学院)于1986年己建成年产几十吨的装置.制得的主要产品有纳米硅基粉体(主要有SiC、Si3N4、Si02)以及纳米氧化物粉体。气相沉积涂层技术是材料表面改性技术中的一个重要组成部分。由于激光具有高能量密度及良好的相干性能通过激光激活可使常规CVD技术得到强化。 LICVD已从最初的金属膜沉积发展到半导体膜、介质膜、非晶态膜以及掺杂膜等在内的各种薄膜材料的沉积。目前,应用连续CO2激光制取TiN膜、TiC膜及复合氮化钛膜已有报道。气相法制备纳米颗粒二、激光化学气相沉积(LICVD)原理LICVD反应原理: LICVD是利用反应气体分子或催化分子对特定波长的激光共振吸收,反应气体分子受到激光加热引起反应物发生激光光解、激光热解、激光光敏化和激光诱导等离解化学反应,在合适的制备工艺参数如激光功率、反应室压力与气氛的比例、气体流量以及反应区温度等条件下获得超细粒子空间成核和生长,形成纳米颗粒。LICVD法合成纳米粉末的实验原理利用大功率激光器的激光束照射于反应气体,反应气体通过对入射激光光子的强吸收,气体分子或原子在瞬间得到加热、活化,在极短的时间内反应气体分子或原子获得化学反应所需要的温度后,迅速完成反应、成核、凝聚、生长等过程,从而制得相应物质的纳米粒子。激光法合成纳米粉末原理图1-反应气,2-保护气,3-激光束,4-反应区,5-反应焰,6-冷壁,7-收集室入口LICVD法反应装置包括激光器、反应器、纯化装置、真空系统、气路与控制系统激光束照在反应气体上形成了反应焰,经反应在火焰中形成微粒,由氩气携带进入上方微粒捕集装置。
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