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第八章印模制取与石膏模型的灌注

上传者:随心@流浪 |  格式:ppt  |  页数:60 |  大小:10709KB

文档介绍
第八章印模制取与石膏模型灌注Р泰山医学院口腔医学院?口腔正畸教研室郭甜甜Р教学目的Р掌握:模型结构与类型? 记存模型的要求? 模型灌注注意事项?熟悉:印模制取? 模型灌注与修整Р一、模型结构与类型Р1.模型结构Р上颌基底部分Р解剖部分Р下颌基底部分Р2.模型类型?(1)记存模型:保存和记录患者治疗前、中、后口腔状况的模型。Р(2)工作模型:用于制作各类修复体、矫治装置、固位装置的石膏模型。Р(3)诊断模型:对患者的口腔情况进行研究、分析、诊断。明确疾病的病因与性质。Р二、记存模型Р1.记存模型目的?用于间隙总量的计算;?评估和记录牙体解剖形态,尖窝交错关系;?评估和记录牙弓形态、曲线;?评价治疗进展,检查异常情况;?为治疗前、中和治疗后数年提供记录,以研究治疗过程。Р2.记存模型的要求?(1)上下颌模型底部至前庭沟距离为13mm。Р(2)上下颌模型后壁相互平行,处于同一垂线上。Р(3)模型的侧壁与后壁间斜面长度为13mm;

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