、SiO2含量≥97.5%?A、硅石表面不得有山皮石、风化石、沙土等杂质;B、硅石应有较好的机械强度和抗爆性;C、粒度要在80-140mm。6.兰炭:?1)、固定碳含量≥82%?2)、粒度:小料8-18mm筛下物:≤5%?3)、水份:≤16.0%?4)、挥发份含量:小料≤8.0%?5)、灰份含量:≤8.0%.7.电极糊(焙烧电极):1)、灰份:≤6.0%2)、挥发份:夏季:11.2≤挥发份≤12.5冬季:11.0≤挥发份≤12.33)、外观质量合格,断面不得含有杂质、水珠。8.硅铁冶炼基本原理硅铁冶炼的基本原理反应式为:SiO2+C=Si+CO;整个反应大体分为以下四个阶段:(1)SiO歧化反应区该区域主要存在的反应为SiO(g)+2C(s)=SiC(S)+CO(g)即由炉底(各质气化区)上升的氧化硅气体与兰碳反应生产碳化硅。(2)SiC生产区该区域主要存在的反应为SiO2(L)+3C(s)=SiC(S)+2CO(g)即该区域由于温度升高,二氧化硅由固态融化为液态(半熔融状态),反应接触面增大,并与兰碳大量反应生成碳化硅。(3)SiC分解区该区域主要存在的反应为SiO2(L)+2SiC(S)=3Si(L)+2CO(g)即液态二氧化硅和碳化硅反应生产硅。(4)各质气化区该区域主要存在的反应为3SiO2(L)+2SiC(S)=Si(L)+2CO(g)+4SiO(g)即液态二氧化硅和碳化硅反应生产硅、氧化硅气体以及一氧化碳气体。9.冶炼操作注意事项1、配料操作硅石:300公斤;兰炭:190-200公斤;球团矿:50-60公斤2、冶炼操作一次电流:250-270A,三相电流保持平衡;入炉深度:1500-1800mm;均匀加料,保持料面透气性良好;正确处理刺火、大塌料现象。3、炉前操作深堵眼;勤清流槽,处理假口;控制铁钎使用量;保证铁水包烘烤彻底,锭模干净、干燥4、综合操作要求10.
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