粒度：小料8-18mm 筛下物：≤5%?3）、水份：≤16.0%?4) 、挥发份含量：小料≤8.0%?5）、灰份含量：≤8.0%Р.Р.Р7РР电极糊（焙烧电极）：?1）、灰份：≤6.0%?2）、挥发份：夏季：11.2≤挥发份≤12.5 ? 冬季：11.0≤挥发份≤12.3?3）、外观质量合格，断面不得含有杂质、水珠。Р.Р8РР硅铁冶炼基本原理?硅铁冶炼的基本原理反应式为： SiO2+C=Si+CO；整个反应大体分为以下四个阶段：??（1）SiO歧化反应区?该区域主要存在的反应为SiO(g)+2C(s)=SiC(S)+CO(g) ?即由炉底（各质气化区）上升的氧化硅气体与兰碳反应生产碳化硅。??（2）SiC生产区?该区域主要存在的反应为SiO2（L）+3C(s)= SiC(S)+2CO(g) ?即该区域由于温度升高，二氧化硅由固态融化为液态（半熔融状态），反应接触面增大，并与兰碳大量反应生成碳化硅。??（3）SiC分解区?该区域主要存在的反应为SiO2（L）+ 2SiC(S)=3Si(L)+2CO(g)?即液态二氧化硅和碳化硅反应生产硅。??（4）各质气化区?该区域主要存在的反应为?3SiO2（L）+ 2SiC(S)=Si(L)+2CO(g)+ 4SiO(g)?即液态二氧化硅和碳化硅反应生产硅、氧化硅气体以及一氧化碳气体。Р.Р9РР冶炼操作注意事项??1、配料操作? 硅石：300公斤；兰炭：190-200公斤； 球团矿：50-60公斤?2、冶炼操作? 一次电流：250-270A，三相电流保持平衡；入炉深度：1500-1800mm；均匀加料，保持料面透气性良好；正确处理刺火、大塌料现象。?3、炉前操作? 深堵眼；勤清流槽，处理假口；控制铁钎使用量；保证铁水包烘烤彻底，锭模干净、干燥?4、综合操作要求Р.Р10
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