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光敏印章制作技术的分析与研究的论文

上传者:你的雨天 |  格式:doc  |  页数:4 |  大小:26KB

文档介绍
皱折。三者压紧后曝光既可。 3光敏印章机技术研究与分析。光敏印章机的技术性能对光敏印章的制作质量起着至关重要的作用。光敏印章机主要包含光敏灯管电源及光敏印垫机械压紧装置两大部分。光敏机的电源部分包含电容的充放电部分及光敏灯管的触发电路部分,通常采用倍压充电的方式,充电电压在400v-600v时可以触发光敏灯管导通曝光。充电电路中充电电容一般采用450v,1ooouf电解电容串并联构成。选择高品质、高稳定性的电解电容可以提高光敏机整机的稳定性和可靠性。目前光敏印垫的种类繁多,不同印垫要求的曝光能量也千差万别。曝光能量不足会造成印章边界模糊,不清晰,而曝光过度又会造成章面吸油性变差,影响盖章质量。一般要求光敏印章机单根灯管曝光能量最大能达到600焦耳以上,双管光敏机的能量最大能达到1200焦耳以上。同时,根据印垫种类的不同,要求光敏机的曝光能量能够根据印垫的不同要求平滑可调。目前国内光敏机多采用双光敏灯管设计,由于每根管子的导通性不可能完全一样,在进行电路设计时,应该采用两组独立的电容充放回路。这对提高光敏灯管的寿命,提高整机的稳定性是非常重要的。光敏机的机械压紧装置是光敏印章机的另一个重要组成部分。光敏印垫在曝光时不仅要受到足够的强光照射,印垫本身的厚度还需被压缩到一定尺寸,这样才能够有较好的曝光效果,因此,在设计光敏印垫机械压紧装置时不仅需要压力匀均,而且需要压力足够并且能够适用不同厚度光敏印垫。目前光敏印垫的厚度一般在3mm-7mm之间,压紧时一般需要将其厚度压缩至原厚度的一半左右,如7mm的印垫需压缩至3-4mm左右才能保证有较好的曝光效果。设计一个外形美观、适用方便、成本合适的压紧装置对提高光敏印章的制作质量也是至关重要的。本文从网络收集而来,上传到平台为了帮到更多的人,如果您需要使用本文档,请点击下载按钮下载本文档(有偿下载),另外祝您生活愉快,工作顺利,万事如意!

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