材料制备技术РР第一页，共16页РРРР脉冲激光沉淀系统实体图Р第二页，共16页РРРР第三页，共16页РРРРPLD定义及特点?※PLD基本原理及示意图? PLD制备的物理过程? PLD制备的具体步骤?※PLD与其他物理沉积法的区别? PLD优缺点Р脉冲激光沉积法（PLD）Р第四页，共16页РРРР薄膜样品在光学显微镜下放大 1000 倍的表面形貌示意图Р第五页，共16页РРРРBiFeO3薄膜样品的AFMР具有较高质量的表面平滑度，颗粒的粒径分布比较均匀。Р第六页，共16页РРРРThank you！！！РFor your listening！！！Р第七页，共16页РРРРPLD是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶体材料表面，使靶体材料表面产生高温及熔蚀，并进一步产生高温高压等离子体(T≥104K)，这种等离子体定向局域膨胀发射并在衬底上沉积而形成薄膜。?沉积过程中的工艺参数可调，可以精确控制沉积薄膜的化学计量，得到的薄膜具有良好的平整度、表面光滑度，适用于超薄薄膜和多层薄膜的制备。?属于物理气相沉积法，是一种先进的薄膜制备技术。РPLD定义及特点Р返回Р第八页，共16页РРРР脉冲激光沉积装置示意图Р脉冲激光沉积法基本原理Р返回Р第九页，共16页РРРРPLD制备薄膜的物理过程Р(1)激光汽化靶材：表面熔蚀及等离子体产生??(2) 等离子体的定向局域等温绝热膨胀发射，形成羽辉??(3)薄膜沉积：在衬底表面凝结成膜Р返回Р第十页，共16页
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