于类会刚石薄膜附着力的提r岛。实验≥采川1划痕法研究了刚着力羽I主吲I‘钏I.爪I以及Jbi(7,tI频率之问的关系。图】.5显示主川路电压升高,附着力下降。图J6Jia示频率从(1~4)IIz,刚着力缓慢I::-J-I‘,但超过zlPlz以后,附着力迅速下降,镀n{1'67I)1,C膜极易脱落、起皮。主回路电压或频率I<i9于1高意味着沉积速率的增加。提高沉积速率列‘于增强膜层的俐着力有一定的效果。但是,沉积速率提高,Jl莫fTJ内应力增加,有时导致膜龟裂,引起刚着力刚犟。在脉冲多弧离子镀制备的类余刚石薄膜中存在强的内应力,内应力是影响膜层附着力的主要因素。6020卜m路电爪(V)5临界载荷跟主同路电压的关系3本论文内容的组织和安排25频牢(Hz)幽1.6临界载荷与脉冲频率的关系光学薄膜119;t7l,械性能是薄膜nq很重要的性能,薄膜机械性能的好坏直接关系n0薄膜在实际应用中的性能,丌展对薄膜机械性能的研究列提高薄膜的各项性能址7K7『j-必要的。本义≯/对l。p红外薄膜在实际应用中的需求,对中红外薄Jl'莫fiO应力、附着力等方面进行了系统的研究。本论文主要内容安排如下:本文首先在第一章综述了国内X)l、中￡L;JybO'A学薄膜应力和|jf{着力的研究现状,同时对本论文研究的背景、目的以及主要内容也作了介绍。在第二章中,先讨论了薄膜应力fiO形成原因及薄膜应力的类型,对常用的几种中7J_J'l、薄膜的热应力进行了分析计算,探讨了薄膜内应力形成的一些机理,对rfL层和多层膜残余应力的计算进行了讨论,最后研究了薄膜应力测量方面的内容。第三章主要讨论了光学薄Nljf,.t着类型、附着机理、附着力测量方法、影响薄JlD!l;f,J着力的:I:艺因素以及改善阳着力的方法。第四章主要研究了在刁ii77LL:艺条件下,各种中7ZJ'b薄膜材判I'.1',Jsio.层膜的光学特性。
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